?光刻機是用于芯片制造的核心設備，按照用途可以分為用于生產芯片的光刻機、用于封裝的光刻機和用于LED制造領域的投影光刻機

?光刻機的核心原理就是一個透鏡組，在精度上首先有個概念：現在芯片的線條精度已發展到10nm級別，而較大的原子直徑是將近1nm，把芯片放在電子顯微鏡下即可清晰地數出每個線條上有幾個原子。

?芯源微、華特氣體、清溢光電等光刻機龍頭可大膽買入，長線持有。

光刻機概念股已經有一波漲幅，目前仍處于調整階段，如果想長期持有，建議逢低買入。