磁控濺射陶瓷膜是一種通過物理氣相沉積技術制備的薄膜。該技術是利用高能離子轟擊靶材表面，使得靶材原子或分子從靶材表面剝離并沉積在基底上的一種方法。其中的"磁控"指的是在制備過程中，使用了外加磁場來調節離子轟擊靶材表面的角度和方向；"濺射"指的是由于離子轟擊而產生的原子或分子從靶材表面剝離并沉積在基底上。

該技術可以制備出具有高硬度、高耐磨性、高化學穩定性等特點的陶瓷薄膜。這些特點使得該膜廣泛應用于電子、光學、機械等領域，如半導體器件、涂層保護、摩擦削減等方面。

采用了多層聚酯膜技術。將240層的聚酯膜疊加在一起，制成僅有0.05mm厚的隔熱膜，它不僅透光性好，同時隔熱性和使用壽命也都很好，并且還沒有電磁信號干擾等特點。

氮化鈦納米陶瓷材質不阻隔信號，確保信號穩定無憂，側后擋使用高性能快干粘合劑，3小時快速干燥。