膠膜太薄，易生成針孔，抗蝕能力差；太厚則不易徹底顯影，同時會降低分辨率。光刻膠的實際厚度與它的粘度有關，并與甩膠機的旋轉速度的平方根成反比。

涂膠方法有旋轉涂覆法、刷涂法、浸漬法、噴涂法等。在一定的溫度下，使光刻膠液中溶劑揮發(fā)，增強光刻膠與基片粘附以及膠膜的耐磨性。

前烘的溫度和時間由光致抗蝕劑的種類和厚度決定，常采用電熱恒溫箱、熱空氣或紅外熱源。